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        光催化系統知識點介紹
        2022-05-29

        介紹:

        光催化系統在光解水過程中,采用獨特的RTKGMC專利技術,直接測量氣體輸出(氫或氧氣)或氣體輸出,測量精度可達到ppm水平。同時,它突破了傳統設備本身造成的低瓶頸,實現了高氣體輸出(氣體輸出)的實時性。在線監測適用于對不同輸出的催化劑系統的評估。

        光催化系統特點:

        1.非真空:光解水在常溫常壓下制氫;

        2.簡單無泄漏:配套設備少,操作方便,維修方便。無真空玻璃管,安裝復雜。沒有閥門,沒有泄漏;

        3.重復性好:為避免傳統裝置氣體循環不暢造成的測量誤差,實驗重復性較好,直接測量產氣量(產氣率);

        4.寬度范圍:適用于各種產率催化劑系統的研究,測量范圍為0.1000-300ml/h;

        5.自動測量:RTKGMC專利技術,實時記錄測量數據,無GC,無校準誤差;

        6.不需計算:避免傳統裝置產氫計算誤差,不需計算直接測量產氫(或質量.產氫率);

        7.模擬工業環境:非真空環境更接近真實的工業環境,可以在工業條件下探索光解水制氫;

        8.多渠道:可以根據客戶的科研需求定制多渠道裝置,有利于平行實驗。

        光催化系統技術參數:

        1.工作環境:常溫常壓;

        2.測量技術:GMC專利技術;

        3.0.0333ml測量精度;

        4.0.1000-300ml/h的測量范圍。


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